08.02.2019

Chemnitzer Seminar: Elektronenstrahl-Lithografie: Materialien – Prozesse – Anwendungen


Quelle: Ines Escherich
08.02.2019
Das Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS lädt am Mittwoch, dem 13. März 2019, zum Chemnitzer Seminar über Elektronenstrahl-Lithografie ein.

Das ENAS möchte damit ein regelmäßiges Format anbieten, bei dem Fachkollegen und Interessenten sowie potenzielle Nutzer und Anwender der Elektronenstrahllithografie miteinander ins Gespräch kommen und sich zu aktuellen Themen rund um die elektronenstrahlbasierte Nanostrukturierung austauschen.

Bereits 2015 zur Einweihung des Nanolithografie-Labs mit der Elektronenstrahl-Belichtungsanlage SB254 der Vistec Electron Beam GmbH (Jena) wurde diese Veranstaltungsreihe ins Leben gerufen. Nun wird sie fortgeführt und neben den wissenschaftlichen Fragestellungen sollen auch praktische Aspekte und Hintergründe beleuchtet werden, die bei internationalen Konferenzen oft nicht zur Sprache kommen.

Mit einem breiten Spektrum an Vortragsthemen – von Elektronenstrahllacken und neuen Materialentwicklungen über die Datenaufbereitung bis hin zu einem breiten Mix von Anwendungen – lädt das Fraunhofer ENAS zu einem informativen und kurzweiligen Workshop ein.

Das Programm, die Anmeldung und weitere Informationen zur Veranstaltung sind unter www.enas.fraunhofer.de/chemnitzer-seminare zu finden

Kontakt: Andrea Messig-Wetzel, Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS
andrea.messig-wetzel@enas.fraunhofer.de
 

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