MO-Optik – neues Beleuchtungssystem für SUSS MicroTec Mask Aligner

SUSS MicroTec, Anbieter von Lösungen für 3D-Integration, MEMS, Advanced Packaging und Nanotechnologie, hat die MO-Optik, ein neues Beleuchtungssystem für alle manuellen und automatischen SUSS MicroTec Mask Aligner auf den Markt gebracht. Die patentierte MO-Optik basiert auf Mikro-Optiken (Mikrolinsen-Arrays) und kann in alle Generationen der SUSS MicroTec Mask Aligner eingebaut werden. Sie bietet eine uniforme Maskenbeleuchtung, mehr Licht und erlaubt eine flexible Anpassung der Beleuchtungswinkel.

Die MO-Optik wird mit einer Auswahl an Filterplatten geliefert, die alle bisherigen SUSS MicroTec Optiken (A-Optik, D-Optik, HR-Optik und LGO-Optik) und zusätzliche Filterplatten für Ringbeleuchtung, Quadrupol und Malteserkreuz beinhaltet. Durch gezielte Wahl der Beleuchtung, zum Beispiel einer Ringbeleuchtung für runde Kontaktlöcher (Vias), kann die Auflösung und Schärfentiefe bei der Lithographie im Mask Aligner deutlich verbessert werden. Robuste und unempfindliche lithographische Prozesse vergrößern das Prozessfenster und erhöhen die Ausbeute (Yield) in Forschung und Produktion.

„Die MO-Optik ist eine wirkliche Innovation in der Mask-Aligner-Lithographie und erlaubt es unseren Kunden, höchste Auflösung auch bei großen Proximity-Abständen zu erzielen“, erklärt Dr. Ralf Süss, Geschäftsführer der SUSS MicroTec Lithographie.
 
SUSS MicroTec Lithography GmbH
Brigitte Wehrmann
brigitte.wehrmann@suss.com
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