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"1 – 10 – 100 – 1000“ - Erzielbare Bauteilhöhen von über 1 cm, Oberflächen mit Rauheiten in der Größenordnung von 10 nm, Strukturgrößen von kleiner als 100 nm und Schreibgeschwindigkeiten schneller als 1000 mm/s: Mit der neuen Zwei-Photonen Polymerisationsplattform MPO 100 präsentiert Heidelberg Instruments auf der Messe Photonics West in San Francisco erstmalig ein Multi-User-Tool, das sowohl die Anforderungen der 3D-Lithografie mit Auflösungen im 100 nm Bereich als auch jene des 3D-Mikrodruckes mit Druckhöhen von über einem Zentimeter in einem Gerät kombiniert.
„Die MPO 100 stellt ein einzigartiges Werkzeug für die Mikrofabrikation dar und erzielt mit 100 Nanometern die höchste Auflösung unter den additiven Fertigungsverfahren. Die 1-10-100-1000 Fähigkeit der MPO 100 wird die Anwender an Universitäten, F&E-Einrichtungen sowie aus der Industrie begeistern und deutliche Vorteile für Neuentwicklungen in Bereichen wie der Mikrooptik, Mikrofluidik und Biomedizin bieten“, so Dr. Benedikt Stender von Multiphoton Optics, einem 100-prozentigem Tochterunternehmen der Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH.
Die MPO 100 arbeitet mit einer Laserwellenlänge im grünen Spektralbereich, der sich optimal für die 3D Strukturierung von gängigen Fotolacken eignet. Mit ihren einzigartigen Eigenschaften sind insbesondere die Hybridpolymere (ORMOCERs) herauszuheben, für deren Verarbeitung die MPO 100 optimiert wurde. Zusätzlich zu ausgefeilten Algorithmen zur Optimierung der Strukturqualität bietet das synchronisierte Scansystem die Möglichkeit zur stitching-freien Fertigung. Darüber hinaus ist die Anlage als einzige im Markt mit einer Flowbox ausgestattet, die eine Temperaturstabilität von bis zu 0,1°C garantiert und damit die notwendige Stabilität für großflächige Belichtungen liefert. Anwendungsspezifische Schreibmodi ermöglichen kundenspezifische Druckanforderungen und zeichnen die MPO 100 als Multi-User-Tool aus.
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