EVG und Eulitha unterzeichnen Abkommen zur gemeinsamen Entwicklung von Nanostrukturierungslösungen für die Herstellung von ultrahellen Leuchtdioden

Die EV Group (EVG), ein führender Anbieter von Waferbonding- und Lithographieanlagen für die MEMS-, Nanotechnologie- und Halbleiterindustrie, hat ein Entwicklungs- und Lizenzabkommen mit der Eulitha AG unterzeichnet. EVG wird die maskenbasierte UV Photolithographie–Technologie PHABLE von Eulitha, einem Pionier im Bereich der Nanostrukturierung, in seine automatischen Mask Aligner der EVG 620-Serie integrieren. Ziel ist die Entwicklung einer kosteneffizienten Lösung zur Nanostrukturierung für die Herstellung von ultrahellen Leuchtdioden.

Die bereits demofähige Technik erlaubt eine automatisierte Fabrikation großflächiger photonischer Nanostrukturen. Durch die Kombination der günstigen und anwendungsfreundlichen Proximity-Lithographie mit einem Verfahren zur Erzielung von Auflösungen im Sub-Mikrometer-Bereich eignet sich die Lösung für die Strukturierung von Saphir-Substraten zur Erhöhung der LED-Lichtausbeute.

Die Synergie der Technologien von EVG und Eulitha ermöglicht die Auflösungs- und Massenproduktionsfähigkeiten von Lithographie-Steppern zu einem Bruchteil der Kosten. Damit werden Hersteller von LEDs und anderen optischen und photonischen Bauteilen, die oft unter höchstem Herstellungskostendruck stehen, in die Lage versetzt, ihre Technologie weiterzuentwickeln und somit noch leistungsfähigere Produkte zu erzeugen.  

Kontakt: Clemens Schütte, EV Group
C.Schuette@EVGroup.com